不锈钢深孔抛光价格在线咨询

棫楦金属材料有限公司成立于2010年，公司具有全自动电解出产线4条,手动电解出产线3条,首要以不锈钢、不锈铁电解抛光、钝化加工为主，很大工件电解抛光规范：2300*1100*1000，所加工产品首要用于精密电子配件、家私、餐具方面。063μm，由于电解抛光、流体抛光等方法很难精l确控制零件的几何精l确度，而化学抛光、超声波抛光、磁研磨抛光等方法的表面质量又达不到要求，所以精密不锈钢的镜面加工还是以机械抛光为主。加工后的产品完全可以经过：ROHS、FDA、QS等规范查验。

区别于传统的纯机械或纯化学的抛光方法，CMP通过化学的和机械的综合作用，从而避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯化学抛光易造成的抛光速度慢、表面平整度和抛光一致性差等缺点。（2）整流器电解抛光对电源波形要求不是太严格，可选用可控硅整流器好高频整流器。它利用了磨损中的“软磨硬”原理，即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的表面抛光。

CMP抛光液:CMP抛光液是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品，广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。

棫楦金属材料有限公司以不锈钢、不锈铁电解抛光、钝化加工为主，很大工件电解抛光规范：2300*1100*1000，所加工产品首要用于精密电子配件、家私、餐具方面。

化学抛光的***问题是抛光液的配制。电化学抛光所需条件及设备（1）电源：电源可选用双相220V，三相380V。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10μm。抛光时，高速旋转的抛光轮(圆周速度在20米/秒以上)压向工件，使磨料对工件表面产生滚压和微量切削，从而获得光亮的加工表面，表面粗糙度一般可达Ra0.63～0.01微米；当采用非油脂性的消光抛光剂时，可对光亮表面消光以改善外观。

化学抛光液的基本组成一般包括腐蚀剂、氧化剂、添加剂和水。腐蚀剂是主要成分，如果零件在溶液中不溶解，抛光就不能进行。氧化剂和添加剂可抑制腐蚀过程，使反应朝有利于抛光的方向进行。水对抛光液浓度起调节作用，便于反应产物的扩散。

化学抛光时间。要得到好的抛光效果，就需要花费一定的时间。超声波抛光将工件放入磨料悬浮液中并一起置于超声波场中，依靠超声波的振荡作用，使磨料在工件表面磨削抛光。若抛光时间太短，只能获得没有光泽的梨皮状表面。若时间过长，不仅溶解损失增大，而且加工表面会出现污点或斑点。因此存在着一个适当的时间范围，它受材料、抛光液的组成及抛光温度等因素的影响，通常难以预测，除用实验测定外，没有其他方法。