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棫楦金属材料有限公司成立于2010年，公司具有全自动电解出产线4条,手动电解出产线3条,首要以不锈钢、不锈铁电解抛光、钝化加工为主，很大工件电解抛光规范：2300*1100*1000，所加工产品首要用于精密电子配件、家私、餐具方面。抛光用力原则：初始抛光时使用中等偏上压力,使蜡有较好的切削力,后续收光可放松压力。加工后的产品完全可以经过：ROHS、FDA、QS等规范查验。

化学抛光的优点是化学抛光设备简单，不需要什么特殊设备，只需要一个盛抛光液的玻璃杯和夹持试样的夹子就可以了。在抛光过程中钢的电极电位和溶解速度随硝l酸浓度的变化情况如图4-2所示。如果用细薄磨料片切割的试样，切割后不需要砂纸磨光，即可直接抛光。有些非导体材料也可以用化学抛光，非导体嵌镶的试样也可以直接抛光。化学抛光也可以处理形状比较复杂的零件。

棫楦金属材料有限公司成立于2010年，公司具有全自动电解出产线4条,手动电解出产线3条,首要以不锈钢、不锈铁电解抛光、钝化加工为主，很大工件电解抛光规范：2300*1100*1000，所加工产品首要用于精密电子配件、家私、餐具方面。温室从室温到90℃，时间自数秒到数分钟，要根据材料、溶液成分经实验后才能确定***l佳值。加工后的产品完全可以经过：ROHS、FDA、QS等规范查验。

区别于传统的纯机械或纯化学的抛光方法，CMP通过化学的和机械的综合作用，从而避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯化学抛光易造成的抛光速度慢、表面平整度和抛光一致性差等缺点。流体抛光流体抛光是依*高速流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的。它利用了磨损中的“软磨硬”原理，即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的表面抛光。

CMP抛光液:CMP抛光液是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品，广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。