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等离子体纳米抛光是一种新型的金属表面处理工艺，只与工件表面的分子层和等离子体发生反应，原子间距一般为0.1-0.3纳米处理深度为0.3-4.5纳米.抛光材料的表面粗糙度为1MM因此，等离子纳米化学活化工件表面去除表面分子污染层。

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等离子抛光采用的抛光技术是一种完全不同于传统方法的新型抛光技术，此抛光技术是根据电化学原理与化学反应原理而研发设计的。其抛光技术不使用对环境有污染和损害生产者健康的化学物品，但它的抛光效果却能够达到传统方法很难达到的，抛光速度也是传统抛光方法望尘莫及的，生产成本远远低于传统抛光成本。

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等离子抛光同电解既有相似之处也有本质的区别。说他们相似是说他们的抛光后的表面效果差不多。说他的本质区别是等离子抛光成本低和对环境无污染，而电解则相反。电解是靠来对工件进行电化学腐蚀。所以都具有很强的腐蚀性。对人体有很大伤害。对环境污染相当严重。而等离子抛光的抛光盐无腐蚀性，对人体无伤害，对环境也无污染。抛光盐已作过SGS认证，抛光溶剂污水排放也通过ROHS检测无污染。

等离子抛光技术的原理是利用等离子体产生的高能离子对金属表面进行处理，从而改善表面质量。以下是该技术的一般原理及其应用：

原理：

等离子体生成： 通过将气体置于高温或高压环境中，使其离子化，产生等离子体。这些离子具有高能量，电浆抛光厂家，可以用于处理金属表面。

离子与金属表面相互作用： 生成的高能离子与金属表面相互作用，谢岗电浆抛光，击打表面上的氧化物、杂质和微小缺陷，从而清洁表面并提高光泽度。

表面重组： 离子轰击后，电浆抛光厂，金属表面会发生重组，使其更加平整和均匀，从而改善表面质量。

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